程序升温脱附系统（TPD系统）是一套能够原位探测表面反应的初生态产物的高端表面分析设备。整套系统是以 高分辨、高灵敏质谱为核心，计算机系统通过控制加热电源和读温设备，对样品进行线性升温。吸附在样品表面 的分子由于温度升高而脱附，通过采样锥中的离子源被质谱捕获，从而探测出整个线性升温过程中脱附产物的种 类及对应的信号强度。在线性升温过程中，质谱的信号强度在整个温度区间会有一个最大值，这个最大值对应的 温度为最大脱附率温度。不同的升温速率会产生不同的最大脱附率温度。根据升温速率与最大脱附率温度之间的 关系，可以推测出表面化学反应的机理和动力学信息，从而为探测微观化学反应机理提供了一套强有力的手段。 该技术也可以与激光系统联用，用于研究光化学反应机理和动力学信息。
|
组成 |
名称 |
参数指标 |
|
|
本底真空度 |
< 5X10_10mbar |
|
|
抽气系统 |
前级机械泵、分子泵、离子泵、TSP等（Edwards、Pfeiffer. Leybold） |
|
|
真空规 |
热阴极离子规（2X10-11mbar） |
|
|
样品操纵台 |
四轴或五轴自由度，匹配焊接式样品台或者标准flag-type样品台 |
|
|
样品加热方式 |
直流热辐射加热或者电子束加热 |
|
样品处理腔室 |
样品台 温控区间 |
100K-1000K |
|
|
样品台 线性升温 |
2K/s・5K/s可调 |
|
|
预留接口 |
低能电子衍射仪（LEED）、膜厚测量仪（QCM）、氯离子源（Ion |
|
|
可用于加装 |
Source）、四级杆质谱分析仪（RGA）、蒸发源 |
|
|
本底真空度 |
< 2X1010mbar |
|
|
抽气系统 |
前级机械泵、分子泵、离子泵、TSP等（Edwards、Pfeiffer. Leybold） |
|
|
真空规 |
热阴极离子规（2X10-11mbar） |
|
分析腔室 |
质谱探测 质量数范围 |
100amu, 200amu, 300amu, 500amu |
|
|
质谱品牌 |
Ext re I, Hiden, SRS |
|
|
可扩展 |
可以与气路系统联用（可定制）；可以与红夕卜探测手段联用（可定制） |
|
烘烤和控制模块 |
烘烤模块 |
—体式烘箱，温度150°C, PI D控温或者加热带烘烤方式 |
|
控制模块 |
全自动程序控制软件 |
